中國科學家自主研制成功新型光刻機 取得專利20余項
2016年03月25日 9:10 8556次瀏覽 來源： 中國有色網 分類： 科技創(chuàng)新
近日，從中科院光電技術研究所獲悉，該所微電子專用設備研發(fā)團隊自主研制成功紫外納米壓印光刻機。
據中科院光電所微電子裝備總體研究室主任胡松介紹，該所自主研發(fā)的新型光刻機，將納米壓印這一新型高分辨力光刻技術，與具有低成本、高效率特點的紫外光刻技術有機結合。
據了解，這套設備采用新型納米對準技術，將原光刻設備的對準精度由亞微米量級提升至納米量級。對準是光刻設備三大核心指標之一，是實現功能化器件加工的關鍵。該所在國家自然基金的連續(xù)資助下，完成基于莫爾條紋的高精度對準技術自主研發(fā)，取得專利２０余項。
“該技術在光刻機中的成功應用突破了現有納米尺度結構加工的瓶頸問題，為高精度納米器件的加工提供了技術保障。”胡松說。
據悉，該設備可廣泛應用于微納流控芯片加工、微納光學元件、微納光柵、ＮＭＥＭＳ器件等微納結構器件的制備，具有廣闊的應用前景，目前已完成初試和小批生產，并已在高校與企業(yè)用戶中推廣。
責任編輯：李幼玲
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